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產(chǎn)品詳情
簡(jiǎn)單介紹：
等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度，等離子加強(qiáng)化學(xué)沉積PECVD鍍膜儀適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件
詳情介紹：
TN-PECVD-450化學(xué)氣相沉積采用等離子體增強(qiáng)型化學(xué)氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進(jìn)反應(yīng)過(guò)程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學(xué)玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽(yáng)電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。
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名稱 |
PECVD鍍膜儀 |
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型號(hào) |
TN-PECVD-450 |
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特點(diǎn) |
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技術(shù)參數(shù) |
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規(guī)格 |
整機(jī)尺寸 1100mm x 800mm x1100mm |
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