500W RF 500W DC三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸可以選擇，客戶可以根據所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源和500W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，三個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制其他射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規格可選。

鍍膜儀配有兩路高精度質量流量計，客戶若另有需求可以定制至多四路質量流量計的氣路，以滿足復雜的氣體環境構建需求；儀器標配先進的渦輪分子泵組，極限真空可達1.0E-5Pa，同時另有其他類型的分子泵可供選購。分子泵的氣路由多個電磁閥控制，可以實現在不關泵的情況下打開腔體取出樣品，大大提高了您的工作效率。本產品可以選配一體機工控電腦對系統進行控制，在電腦程序上可以實現真空泵組的控制、濺射電源的控制等絕大多數功能，可以進一步提高您的實驗效率。

應用領域

該設備可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該三靶磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備。

名稱	三靶磁控濺射鍍膜儀(500W RF&500W DC)
特點	鍍膜速率高，樣品溫升低，典型的高速低溫濺射 觸控屏控制，內置一鍵式鍍膜程序，操作簡單易上手
技術參數	供電電壓： AC220V，50Hz 整機功率 ：4KW 載樣臺參數： 尺寸 φ140mm； 加熱溫度 *高500℃； 控溫精度 ±1℃； 轉速 1-20rpm可調 磁控濺射頭：2” x3 （1”,2”可選）； 水冷（水冷機規格 10L/min流速的循環水冷機） 真空腔體 ：尺寸 φ300mm X 300mm H，不銹鋼； 觀察窗口 ：φ100mm； 開啟方式： 上頂開式，便于更換靶材 質量流量計： 2路分別通Ar，N2； 量程均為0-100sccm（可根據客戶需要定制多路氣路） 真空系統 ：產品型號 CY-GZK103-A                   抽氣接口 CF160，排氣接口KF40 分子泵 CY-600 前極泵： 旋片泵                   真空測量：復合真空計 極限真空：1.0E-5Pa 供電電源 AC;220V 50/60Hz 抽氣速率：分子泵：600L/S，旋片泵：1.1L/S  綜合抽氣性能：20分鐘真空度可達： 1.0E-3Pa 濺射電源 ：直流電源500W 射頻電源500W
規格	尺寸：600mm X 650mm X 1280mm；重量：300kg