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產(chǎn)品名稱：等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀
產(chǎn)品型號：TN-PECVD-450
產(chǎn)品廠商：泰諾
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簡單介紹：

等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度，等離子加強化學沉積PECVD鍍膜儀適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件

詳情介紹：

TN-PECVD-450化學氣相沉積采用等離子體增強型化學氣相沉積技術(shù)，能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度。適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積氮化硅、非晶硅和微晶硅等薄膜，成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件，可廣泛應(yīng)用于大專院校、科研院所的薄膜材料的科研與小批量制備。

名稱	PECVD鍍膜儀
型號	TN-PECVD-450
特點	能夠利用高能量等離子體促進反應(yīng)過程，有效提升反應(yīng)速度，降低反應(yīng)溫度適用于在光學玻璃、硅、石英以及不銹鋼等不同襯底材料上沉積成膜質(zhì)量好，針孔較少，不易龜裂，適用于制備非晶硅和微晶硅薄膜太陽電池器件
技術(shù)參數(shù)	真空腔體前開門式，φ300mm X 300mm 不銹鋼材質(zhì) 觀察窗：φ100mm 帶擋板真空泵組前級泵：旋片泵抽速1.1L/s，次級泵：渦輪分子泵抽速600L/s 極限真空度 10-6Pa，三十分鐘內(nèi)可達到 10-4Pa 沉積真空 0.133~133Pa，可根據(jù)工藝調(diào)整射頻電源 13.56MHz，500W，自動匹配流量控制質(zhì)量流量計，默認 Ar氣 0~200sccm
規(guī)格	整機尺寸 1100mm x 800mm x1100mm

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