桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）經過小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設備配有一個高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去除鋁靶表面的氧化層，十分適合鍍鋁等對空氣十分敏感的材料。本設備結構緊湊功能完善便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗。

名稱	桌面單靶磁控濺射鍍膜儀（鍍鋁型）
特點	速度快溫升低 高性能直流電源，具有煉靶功能，有效去除鋁靶表面的氧化層，十分適合鍍鋁等對空氣十分敏感的材料 小型化設計，將設備外形限制在了桌面級別
技術參數	樣品臺： 直徑100mm，可加熱 *高溫度500℃，可旋轉 0-20rpm 可調 磁控靶槍： 2 英寸圓形平面靶,  真空腔體： Φ180mm × H 215mm;高純石英; 觀察窗口 全向透明; 開啟方式 頂蓋拆卸式 直流電源： 輸出功率 *大500W ，數量 1 真空系統   機械泵 旋片泵 抽速 1.1L/S，抽氣接口 KF16 排氣接口 KF16  分子泵 渦輪分子泵 抽速 600L/s， 抽氣接口 KF40 排氣接口 KF40  真空測量 電阻規+電離規  極限真空 1.0E-4Pa 供電電壓：AC220V 50H 整機功率 2kw 整機尺寸：550*350*500mm